Realizacje menu

Modernizacja odpylni WPA II w Hucie Miedzi Głogów w zakresie zwiększenia jej wydajności, ograniczenia emisji niezorganizowanej z pieców anodowych stacjonarnych i obrotowych

Zakres prac wykonanych przez BIPROMET:

Pełnienie funkcji Generalnego Realizatora Inwestycji budowy nowej odpylni realizowanej w formule „zaprojektuj i wybuduj” wraz z wykonaniem pełnego programu rozruchowego i pomiarów parametrów gwarantowanych.

Przeznaczenie instalacji

Instalacja odsiarczania i odpylania przeznaczona jest do oczyszczania gazów odciąganych z pieców anodowych obrotowych i stacjonarnych podczas procesu rafinacji miedzi blister na wydziale P-24 HM „Głogów”. Proces odsiarczania i odpylania oparto na wykorzystanej po raz pierwszy w hutnictwie technologii półsuchej z wykorzystaniem reaktora z cyrkulacyjną warstwą fluidalną sorbentu – Ca(OH)2.

Parametry instalacji

  • Nominalna wydajność instalacji IOS                       2 x 45 000 = 90 000 Nm3/h
  • Temperatura gazu procesowego

stabilizowana za reaktorem - filtracji                     80 ÷ 160°C

Główne zadania i osiągnięte cele nowego układu oczyszczającego gazy odlotowe z Pieców Anodowych:

  • ograniczenie emisji pyłu i zawartych w pyle metali poniżej 2 mg/Nm3 do otoczenia,
  • ograniczenie stężenia dwutlenku siarki SO2 poniżej 250 mg/Nm3 do otoczenia przy stężeniach SO2 na wejściu do 10 g/Nm3,
  • zastosowanie technologii umożliwiającej ograniczenie emisji związków arsenu w gazach emitowanych do atmosfery poniżej 0,06 kg/h gazów suchych mierzonych,
  • zastosowanie technologii umożliwiającej prace instalacji ze zmiennym strumieniem spalin,
  • zastosowanie niższej prędkości filtracji i większej powierzchni filtracyjnej w filtrach workowych.

 

Lokalizacja:

  • Zadanie

    GRI

  • Termin realizacji

    2018-2022

  • Inwestor

    KGHM Polska Miedź S.A. Oddział Huta Miedzi Głogów

× Ta strona używa cookie. Korzystając z niej wyrażasz zgodę na ich używanie, zgodnie z aktualnymi ustawieniami przeglądarki. Więcej informacji w Oświadczeniu o prywatności.